Atomic Layer Process Innovation Network
Am 27./28.02.2024 kommen Vertreter der Mikroelektronikforschung deutscher Hochschulen und Industrie in Dresden zusammen, um gemeinsam Tendenzen, Chancen und Herausforderungen in der Nachwuchsförderung zu diskutieren.
This paper presents the development of an atomic layer deposition (ALD) process for metallic cobalt. The process operates at low temperatures using dicobalt hexacarbonyl-1-heptyne [Co2(CO)6HC≡CC5H11] and hydrogen plasma at temperatures between 50 and 110 °C. X-ray photoelectron spectroscopy measurements could show that the deposited cobalt is in the metallic state and the established process shows a homogeneous coating at the wafer level.
Please vote for the best student contribution and the best student paper of this year’s ALPIN workshop. Note: Try to be objective and fair and really choose the best presentation in your opinion (not the person). The prizes for the student awards 2023 are sponsored by ALS Metrology (https://als-metrology.de/) – your partner for in situ … Weiterlesen
This year’s program and final information for the ALPIN workshop 2023 in Chemnitz.
We are looking forward to contributions in the form of posters, plenary (approx. 20+5 min) or technical presentations (approx. 10+5 min) on ALD or ALE related topics.
Please register at the website and provide us with your presentation title and the type of presentation you prefer.
Der diesjährige ALPIN-Workshop wird am 11. und 12. September 2023 in der Alten Aktienspinnerei in Chemnitz stattfinden. Organisiert wird der Workshop dieses Jahr von den Kollegen am Fraunhofer ENAS und der TU Chemnitz.
Der diesjährige ALD for Industry Workshop war wie schon in den vergangenen Jahren ein voller Erfolg, dank der EFDS sehr gut organisiert und voller interessanter Vorträge, Diskussionen und Gespräche. Nachfolgend gibt es eine Auswahl an Fotos von der Veranstaltung und wer alle Fotos sehen möchte, kann dies über folgendem Link: https://www.katharinaknaut.com/index.php?seite=archiv&name=2023EFDS Am 21. und 22. … Weiterlesen
This Special Issue is dedicated to research on the development and synthesis of new compounds and their application using the atomic layer deposition (ALD) technique. In this Special Issue, original research articles and reviews are welcome.
Nur noch eine Woche bis zum diesjährigen ALPIN-Workshop – hier gibt es das Programm mit den geplanten Vorträgen. / Only one week to go until this year’s ALPIN workshop – check out the agenda with the planned talks.
Controlled thin film etching is essential for future semiconductor devices, especially with complex high aspect ratio structures. Therefore, self-limiting atomic layer etching processes are of great interest to the semiconductor industry. In this work, a process for atomic layer etching of aluminum oxide (Al2O3) films using sequential and self-limiting thermal reactions with trimethylaluminum and hydrogen fluoride as reactants was demonstrated.