EFDS ALD for Industry 2023

Der diesjährige ALD for Industry Workshop war wie schon in den vergangenen Jahren ein voller Erfolg, dank der EFDS sehr gut organisiert und voller interessanter Vorträge, Diskussionen und Gespräche. Nachfolgend gibt es eine Auswahl an Fotos von der Veranstaltung und wer alle Fotos sehen möchte, kann dies über folgendem Link: https://www.katharinaknaut.com/index.php?seite=archiv&name=2023EFDS Am 21. und 22. … Weiterlesen

In situ studies on atomic layer etching of aluminum oxide using sequential reactions with trimethylaluminum and hydrogen fluoride

Controlled thin film etching is essential for future semiconductor devices, especially with complex high aspect ratio structures. Therefore, self-limiting atomic layer etching processes are of great interest to the semiconductor industry. In this work, a process for atomic layer etching of aluminum oxide (Al2O3) films using sequential and self-limiting thermal reactions with trimethylaluminum and hydrogen fluoride as reactants was demonstrated.