Atomic Layer Process Innovation Network
Der diesjährige ALPIN-Workshop wird am 11. und 12. September 2023 in der Alten Aktienspinnerei in Chemnitz stattfinden. Organisiert wird der Workshop dieses Jahr von den Kollegen am Fraunhofer ENAS und der TU Chemnitz.
Der diesjährige ALD for Industry Workshop war wie schon in den vergangenen Jahren ein voller Erfolg, dank der EFDS sehr gut organisiert und voller interessanter Vorträge, Diskussionen und Gespräche. Nachfolgend gibt es eine Auswahl an Fotos von der Veranstaltung und wer alle Fotos sehen möchte, kann dies über folgendem Link: https://www.katharinaknaut.com/index.php?seite=archiv&name=2023EFDS Am 21. und 22. … Weiterlesen
Nur noch eine Woche bis zum diesjährigen ALPIN-Workshop – hier gibt es das Programm mit den geplanten Vorträgen. / Only one week to go until this year’s ALPIN workshop – check out the agenda with the planned talks.
Controlled thin film etching is essential for future semiconductor devices, especially with complex high aspect ratio structures. Therefore, self-limiting atomic layer etching processes are of great interest to the semiconductor industry. In this work, a process for atomic layer etching of aluminum oxide (Al2O3) films using sequential and self-limiting thermal reactions with trimethylaluminum and hydrogen fluoride as reactants was demonstrated.