Ankündigung ALPIN-Workshop 2022

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(English – see below) Sehr geehrte Freunde der Atomlagenprozessierung,nach dem positiven Feedback aus dem letzten Workshop möchten wir die Veranstaltungsreihe mit einem Workshop im Jahr 2022 fortsetzen. 1. Ort der Veranstaltung: Fraunhofer-inHaus-Zentrum, Forsthausweg 1, 47057 Duisburg,Anfahrt unter www.inhaus.fraunhofer.de. 2. Datum: Die Veranstaltung findet von Montag, 12.09.22, 14 Uhr bis Dienstag, 13.09.22 12 Uhr statt. 3. … Weiterlesen

In situ studies on atomic layer etching of aluminum oxide using sequential reactions with trimethylaluminum and hydrogen fluoride

Controlled thin film etching is essential for future semiconductor devices, especially with complex high aspect ratio structures. Therefore, self-limiting atomic layer etching processes are of great interest to the semiconductor industry. In this work, a process for atomic layer etching of aluminum oxide (Al2O3) films using sequential and self-limiting thermal reactions with trimethylaluminum and hydrogen fluoride as reactants was demonstrated.