EFDS ALD for Industry 2023

Am 21. und 22. März 2023 findet in Dresden der nächste EFDS Workshop „ALD for Industry“ statt. ALPIN unterstützt die EFDS bei der Organisation und beteiligt sich mit Beiträgen zum Thema ALD am Tutorial und dem Workshop. Auf der verlinkten Seite der EFDS gibt es das diesjährige Programm, die Anmeldung und weitere Informationen: https://efds.org/event/ald-for-industry/

In situ studies on atomic layer etching of aluminum oxide using sequential reactions with trimethylaluminum and hydrogen fluoride

Controlled thin film etching is essential for future semiconductor devices, especially with complex high aspect ratio structures. Therefore, self-limiting atomic layer etching processes are of great interest to the semiconductor industry. In this work, a process for atomic layer etching of aluminum oxide (Al2O3) films using sequential and self-limiting thermal reactions with trimethylaluminum and hydrogen fluoride as reactants was demonstrated.