Atomic Layer Process Innovation Network
Der diesjährige ALPIN-Workshop wird am 11. und 12. September 2023 in der Alten Aktienspinnerei in Chemnitz stattfinden. Organisiert wird der Workshop dieses Jahr von den Kollegen am Fraunhofer ENAS und der TU Chemnitz.
Am 21. und 22. März 2023 findet in Dresden der nächste EFDS Workshop „ALD for Industry“ statt. ALPIN unterstützt die EFDS bei der Organisation und beteiligt sich mit Beiträgen zum Thema ALD am Tutorial und dem Workshop. Auf der verlinkten Seite der EFDS gibt es das diesjährige Programm, die Anmeldung und weitere Informationen: https://efds.org/event/ald-for-industry/
Nur noch eine Woche bis zum diesjährigen ALPIN-Workshop – hier gibt es das Programm mit den geplanten Vorträgen. / Only one week to go until this year’s ALPIN workshop – check out the agenda with the planned talks.
Controlled thin film etching is essential for future semiconductor devices, especially with complex high aspect ratio structures. Therefore, self-limiting atomic layer etching processes are of great interest to the semiconductor industry. In this work, a process for atomic layer etching of aluminum oxide (Al2O3) films using sequential and self-limiting thermal reactions with trimethylaluminum and hydrogen fluoride as reactants was demonstrated.